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CMP【氧化鈰拋光液】
TEL:07-831-3082
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CMP拋光液《簡介》
TEL:07-831-3082
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CMP【氧化鋁拋光液】
TEL:07-831-3082
由高純度二氧化矽微粒所組成,不易刮傷加工原件之表面。
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◢ 特點:
⑴ 低雜質含量。 ⑵ 良好分散穩定性能,不易沉澱。 |
◢ 應用範圍:
⑴ 矽晶圓、藍寶石晶圓、化合物半導體晶圓、砷化鎵晶圓、氮化鎵晶圓、精密光學元件、各種電路基板...等。 ⑵ 陶瓷、石材...等。 |
█ 規格請致電或來信詢問,可依客戶需求進行調整 █
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